ШКАЛЫ И СЕТКИ

Технологический процесс представляет собой контактный метод фотолитографии для нанесения рисунка сетки на стеклянные подложки.

Характеристики:

Прозрачный фон с выгравированными и заполненными линиями TiO2/ZrO2 и краской. Типичная ширина линии 10 ± 3 микрона, другая ширина линии возможна по запросу клиента.

Прозрачный фон с хромированными линиями. Типичная ширина линии 3±1 микрон. Остальные ширины линии доступны по запросу клиента.

Непрозрачный хромированный фон и прозрачные линии. Типичная ширина линии 3±1 микрон, другие ширины линии доступны по запросу клиента.

Типичный допуск на расстояние между рисунками до ± 3 микрон

Центрирование линий сетки менее чем на 0,1 мм относительно наружного диаметра стеклянной подложки

Дополнительные покрытия: AR-покрытия на обеих сторонах сетки, наносимые после фотолитографии

Контроль качества ширины и расстояний производится на измерительных микроскопах MITUTOYO и VICKERS с точностью до 1 микрона

Оставить заявку